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水溶液ミストで窒化銅(Cu3N)薄膜を低温・低コスト・大面積形成 7月9日にJST新技術説明会でオンライン公開
学校法人工学院大学 が配信したプレスリリースです。 本文は配信元のページでご覧ください。
工学院大学(学長：今村 保忠、所在地：東京都新宿区／八王子市)の山口 智広 教授(応用物理学科)は、水溶液ミストから高品質な窒化銅(Cu3N)薄膜を低温・低コスト・大面積で形成する技術を開発しました。錯体構造制御Mist CVDに基づき、銅粉末とアンモニア水にHacac(アセチルアセトン)を加えた簡便・低コストな前駆体を設計し、Cu3N薄膜の高品質化を実現した点が特徴です。 2026年7月9日にオンライン開催されるJST新技術説明会(主催：国立研究開発法人科学技術振興機構(JST)、工学院大学)において最新研究成果と産業応用の可能性を企業に向けて紹介し、社会での技術活用を進めます。
@Press の配信ページより抜粋
配信した企業
| 企業名 | 学校法人工学院大学コウガクインダイガク |
|---|---|
| 法人番号 | 4011105000921 |
| 所在地 | 東京都新宿区 |
| 業界 | 教育業界 |
| 事業内容 | ○事業内容 教育・研究 ○設置学校 工学院大学 工学院大学大学院 工学院大学附属高等学校 工学院大学附属中学校 |
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