フォトマスク関連技術の国際会議「SPIE Photomask Technology +Extreme Ultraviolet Lithography」に参加

株式会社ニューフレアテクノロジーが配信したプレスリリースです。本文は配信元のページでご覧ください。

株式会社ニューフレアテクノロジーのプレスリリース（2026年9月15日 15時15分）フォトマスク関連技術の国際会議「SPIE Photomask Technology +Extreme Ultraviolet Lithography」に参加
PR TIMES の配信ページより抜粋

配信した企業

企業名	株式会社ニューフレアテクノロジーニューフレアテクノロジー
法人番号	5080101002461
所在地	神奈川県横浜市磯子区
業界	製造業界, 機械業界
事業内容	半導体製造装置の開発、製造、販売。主な製品は電子ビームマスク描画装置、エピタキシャル成長装置、マスク検査装置。